发表时间：2023-12-30 06:38:57 │ 点击数：
激光光刻技术通过对光场以及多物理场的调控，精确操控微观尺度原子分子的变化，满足多样化精细结构的制备需求，在当前复杂多变的信息技术应用场景中发挥着不可替代的作用。光刻技术按照光场实现图案化的方式，主要分为掩模光刻与直写光刻两种：前者主要基于投影曝光方式，技术成熟度高，是当前光刻工艺的主要技术，在泛半导体领域中得到广泛应用；后者技术手段丰富，包括近场表面等离子体光刻、全息光刻、干涉光刻、双光子光刻等，具有工艺简单、加工周期短、灵活性强、费用低等优势，是当前研究的热点之一，正逐步走向产业应用。
但现阶段激光光刻技术仍面临诸多挑战：发展光刻分辨力的新原理和新技术，探索纳米尺度复杂结构和图案的加工途径；发展快速光刻新方法，研究跨尺度微纳结构的高效制造手段；发展针对不同材料类型的微纳加工方法，探索包含金属材料、硬脆材料、生物医学材料、二维材料在内的多种材料的微纳构型的加工方法；开发新型光刻装置，实现其在半导体器件、超构表面、微机电系统等领域中的应用。
随着光电子技术、纳米光子技术和材料技术等的快速发展，众多新技术成果极大地丰富了突破现有光刻技术瓶颈的手段。近期，多种技术的交叉应用，使得在提升刻写精度与速度、拓展加工材料范围以及探索新结构新器件应用等方向实现了重大突破。因此《中国激光》拟于2024年第14期（7月）出版“激光光刻技术”专题，希望通过本专题的出版，进一步推动激光光刻关键技术与装置的发展。
现特向广大专家学者征集符合该专题方向的原创性研究论文及综述。欢迎各位踊跃投稿！
通过《中国激光》官网进入“作者中心”，按系统要求填写信息，上传稿件投稿（作者留言备注“激光光刻技术”专题投稿）。投稿模板及要求请参见《中国激光》官网。
《中国激光》创刊于1974年，由中国科学院主管、中国科学院上海光学精密机械研究所和中国光学学会主办、中国激光杂志社出版，是全面报道激光技术领域最新研究成果的旗舰级中文学术期刊。2021年改为半月刊，并开始出版“英文长摘要”以提高期刊论文的国际传播力。2021年和2022年分别打造“前沿激光制造”专题刊和“生物医学光子学”专题刊。
《中国激光》目前被EI、ESCI、AJ、CA、INSPEC、Scopus、CSCD等检索系统收录。多次获得“百强科技期刊”“百种中国杰出学术期刊”“中国精品科技期刊”和“中国最具影响力学术期刊”等称号。2019年入选“中国科技期刊卓越行动计划”。2021年荣获“第五届中国出版政府奖”期刊奖提名奖。2022年入选《光学工程和光学领域高质量科技期刊分级目录》“T1级”。
“前沿激光制造”专题刊聚焦国内外激光制造领域的优秀成果，通过快速报道领域内的动态与发展趋势，推动激光制造领域的产学研创新发展。专题刊发文涵盖“激光微纳制造”“激光增材制造”“激光成形制造”“激光表面加工”，每年出版6~8期，平均外审周期21天，录用周期50天。
